氧主要来源于石英坩埚，因此如何最大限度降低坩埚中氧的释放则是单晶降低氧含量的重要手段，而石英坩埚品质的好坏直接关系到放含量的释放程度。坩埚中氧的释放过程实际上就是坩埚气泡层穿透透明层向硅液中释放氧的过程，而在坩埚内层烧结一层 3-5mm左右的透明层，从而既保证了坩埚内表面的纯度，又不致于使坩埚软化点过低。因此，坩埚透明层的质量好坏决定了坩埚气泡的释放程度。另一方面，现在的坩埚都是在坩埚内表面用氢氧化钡进行涂层，其目的就是减少硅液对坩埚的侵蚀程度，因此，氢氧化钡的纯度很大程度上影响着坩埚内表面所生成的钡离子结晶层的好坏。从而影响着坩埚内氧含量的释放。