石英玻璃制备方法技术实现，具备一定实验要素，这也是实现石英玻璃制备方法的要素，

　　石英玻璃的制备方法，主要目的是提高石英玻璃的纯度。以含硅化合物为原料，所述含硅化合物经汽化后通入燃烧器，所述含硅化合物发生化学反应，并沉积形成石英玻璃或二氧化硅疏松体，所述含硅化合物的分子选自下述硅烷、有机硅烷、有机硅氧烷和聚硅氧烷中的一种。

　　硅烷为甲硅烷（SiH4）或乙硅烷（Si2H6）。有机硅烷为乙烯基硅烷、甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙酰氧基硅烷、甲基三丁酮肟基硅烷、四丁酮肟基硅烷、3-巯丙基三甲氧基硅烷、3-巯丙基三乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、烷氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、四乙氧基硅烷、三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷或环氧基硅烷。

　　有机硅氧烷为二甲基硅氧烷、六甲基二硅氧烷（MM）、二乙烯基四甲基二硅氧烷、二甲基乙烯基乙氧基硅烷、八甲基三硅氧烷、十甲基四硅氧烷、十二甲基五硅氧烷或聚二甲基硅氧烷。

　　聚硅氧烷为六甲基环三硅氧烷（D3）、八甲基环四硅氧烷（D4）、十甲基环五硅氧烷（D5）、十二甲基环六硅氧烷（D6）、十四甲基环七硅氧烷（D7）、十六甲基环八硅氧烷（D8）、十八甲基环九硅氧烷（D9）或二十甲基环十硅氧烷（D10）。

　　石英玻璃是通过直接合成法或者间接合成法制备。所述直接合成法的沉积温度为1000℃——3000℃。所述间接合成法在600℃——1200℃温度下沉积形成二氧化硅疏松体，所述二氧化硅疏松体经真空脱羟、脱气和玻璃化后制得石英玻璃。

　　燃烧器的燃料气体选自下述氢气（H2）、甲烷（CH4）和乙炔（C2H2）的至少一种，助燃气体为O2和/或空气。在常温下为气态的原料，直接通入燃烧器。在常温下为固态的原料，将原料加热至液态温度，使其转变为液态含硅化合物，所述液态温度为所述原料的熔点以上且不超过所述原料熔点20℃，再将液态的含硅化合物在高于其熔点、低于其沸点的温度范围内，通过鼓泡方式，由载料气体将雾化后的含硅化合物携带进入温度高于含硅化合物沸点的气化瓶中，使含硅化合物转变为气态。