石英玻璃的成型技术，虽然不知道这其中是怎么形成，石英玻璃作为玻璃中的王者，使用率比其他玻璃有很高的价值，现在是信息时代，石英玻璃的应用更是突出，应用与半导体，石英玻璃的成型技术是什么呢？石英玻璃的成形方法，更具体地为将石英玻璃收容于模具内并加热加压，以将石英玻璃成形为既定形状的方法。

　　IC、LSI等集成电路图案的转印，主要是采用投影曝光装置（或光微影装置）。在此种装置所使用的投影光学系统，随着集成电路的高集积化，而要求大曝光区域与更高分辨率，为了提高投影光学系统的分辨率而使曝光波长朝短波长化进展。

　　具体言之，曝光波长从g线（436nm）朝i线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）准分子激光短波长化进展。此外，于向更高集积化进展时，目前正研讨将F2（157nm）准分子激光、X线电子线用于光源的方法。在此种情况中，利用至今为止的设计思想使用能制作的F2准分子激光的缩小投影曝光装置正受到瞩目。

　　使用较i射线为短波长的投影曝光装置的照明光学系统或投影光学系统的透镜、反射镜、标线片等光学构件，大多用石英玻璃作为材料。此石英玻璃，例如以藉由火焰加水分解来制造透明石英玻璃的直接法等方法合成。

　　直接法，是藉石英玻璃制燃烧器来混合、燃烧助燃气体（含氧气体，例如氧气）与可燃气体（含氢气体，例如氢气或天然气），以高纯度硅化合物（例如四氯化硅气体）作为原料气体，并用载气（通常为氧气）稀释，自该燃烧器的中心部喷出，藉由周围的该助燃气体和可燃气体的燃烧使该原料气体起反应（加水分解反应），以产生石英玻璃微粒子，将该石英玻璃微粒子堆积于进行旋转、摇动和拉下运动的不透明石英玻璃构成的靶材（配置于该燃烧器下方）上，并且，藉该助燃气体和可燃气体的燃烧热而熔融、玻璃化，而获得石英玻璃锭。

　　由于藉由此方法容易获得直径较大的石英玻璃锭，故可自锭切出块体，制造出所期望形状和大小的光学构件，近年来利用将预先形成的锭等石英玻璃块加热加压成形，做成扁平形状而扩大面积的成形方法，以获得大型透镜或标线片或大型液晶显示器等具有大面积的光学构件。