石英清洗槽相关中石英晶片是电子元器件中最为重要的元件，石英晶片在生产流程中需要经过多道处理工序，而制取的晶片在加工过程中有一项参数指标非常重要，即激励功率依赖性，具体是指谐振器在不同激励功率下，石英晶片的频率和电阻所表现的不同变化量，而谐振器产生激励功率依赖性的主要原因是晶片受到污染所致，而现有的石英晶片去污方法普遍存在清洁不充分现象。
一种石英晶片清洗装置，它包括内部带有空腔的酸洗槽基座、多个烧杯和多个聚四氟乙烯清洗筐，酸洗槽基座顶部设置有多个烧杯固定孔，酸洗槽基座的空腔内部设置有加热管，所述加热管内设置有电加热丝，各所述烧杯可拆卸设置在各所述烧杯固定孔内，各所述聚四氟乙烯清洗筐可拆卸设置在各所述烧杯中，各所述聚四氟乙烯清洗筐上均开设有透液孔。
聚四氟乙烯清洗筐的高度小于所述烧杯的高度。烧杯顶部还设置有密封端盖。聚四氟乙烯清洗筐包括圆筒形清洗筐基体和设置在所述圆筒形清洗筐基体一端的清洗筐框底，圆筒形清洗筐基体和所述清洗筐框底上分别开设有所述透液孔。聚四氟乙烯清洗筐的内径小于所述烧杯的内径。
相对现有技术具有实质性特点和进步，具体的说，通过将待酸洗的石英晶片放置在带有透液孔的聚四氟乙烯清洗筐中进行清洗，方便了从酸洗液中取出石英晶片和后续对石英晶片进行热水淋洗和超声波清洗，实现了一个装置可对石英晶片进行多个工艺处理，减少了拿取石英晶片过程对石英晶片的污染。且该装置还具有结构简单，使用方便快捷等优点。
提供一种石英晶片清洗装置，它包括内部带有空腔的长方体酸洗槽基座1、十五个烧杯2和十五个聚四氟乙烯清洗筐3。酸洗槽基座1顶部设置十五个烧杯固定孔12，酸洗槽基座1的型腔内部设置有加热管，加热管内设置有电加热丝，各所述烧杯2可拆卸设置在所述烧杯固定孔12内，聚四氟乙烯清洗筐3可拆卸设置在所述烧杯2中，聚四氟乙烯清洗筐3上开设有透液孔31。
聚四氟乙烯清洗筐3包括圆筒形清洗筐基体32和设置在所述圆筒形清洗筐基体32一端的清洗筐框底33，圆筒形清洗筐基体32和所述清洗筐框底33上分别开设有所述透液孔31。为了能将所述聚四氟乙烯清洗筐3完全置于所述烧杯2中，聚四氟乙烯清洗筐3的高度小于所述烧杯2的高度，所述聚四氟乙烯清洗筐3的内径小于所述烧杯2的内径。
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