I类：以天然水晶或石英砂为原料，用电热法熔制的透明石英玻璃。熔制的气氛有惰性气氛、氢气气氛，也可以是真空。在真空或惰性气氛下熔制的石英玻璃中羟基（-OH）含量低于5×10-6，在氢气气氛下熔制的石英玻璃中羟基含量可达到150×10-6。此类石英玻璃的杂质含量高，Al含量为30——100×10-6，碱金属含量5——10×10-6。
II类：天然水晶原料在氢-氧火焰中熔制成的透明石英玻璃。此类石英玻璃中羟基含量达到180——250×10-6，金属杂质含量低，Al含量少于20×10-6，碱金属含量低于5×10-6，软化温度较I类石英玻璃低50℃，主要用于半导体、光源行业，也用于化工、冶金等行业。
III类：四氯化硅气体原料在氢-氧火焰中水解、熔制成石英玻璃。此类石英玻璃的金属杂质含量低于1×10-6，羟基含量900——1200×10-6。III类石英玻璃的软化点比前两类石英玻璃低50——100℃，但是杂质含量少。
IV类：四氯化硅原料在无氢的等离子焰中高温氧化、熔制成石英玻璃。这类石英玻璃中杂质含量低于1×10-6，羟基含量可控制到低于5×10-6。
Ⅲ、Ⅳ类石英玻璃都由化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition,CVD）法制成，统称合成石英玻璃（Synthetic silica glass）。
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